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产品中心
设备用途
广泛用于半导体、LED研究,可满足铝、钛、铬、钼、钒、镍、银、铟等金属,ITO等氧化物在基片上均匀沉积薄膜的各类工艺要求。
设备组成
系统主要由真空室、旋转基片架、加热系统、电子枪及电子枪电源、石英晶体振荡膜厚监控仪、工作气路、抽气系统、控制系统、安装机台等部分组成。立方整体外观,适用于超净间间壁隔离安装。
技术指标
1、极限真空度:≤6.7×10-5 Pa (经烘烤除气后);
2、系统真空检漏漏率:≤6.7×10-8 Pa.l/S;
3、20分钟可达到工作真空度6.7×10-4 Pa;
4、蒸发速率:0.1~15Å/sec;
5、膜厚均匀性:片内≤±1%,片间≤±1%;
6、电子枪及电源:10KW,坩埚6x40cc;
7、膜厚控制仪(单探头):1套;
8、拱形基片架:可同时放置20片4″基片;
9、样品加热温度:室温~300°C;
10、无油泵抽系统:1套;
11、自动控制系统:1套;
12、占地面积:1600×2700mm;开门后尺寸:3200×3700mm。
公司:中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
地址:沈阳市浑南新区新源街1号
销售电话:024-23826899、024-23826855
售后电话:024-23826838
传真:024-23826828
邮箱:sales@sky.ac.cn
网址:www.greenvalleyismyhome.com
开户行:建行沈阳浑南新区产业园分理处
账号:2100 1394 6010 5958 1266
纳税号:912101 0041 0581 2660
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