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首页 ? 产品中心 ? CVD镀膜设备 ? PECVD系列等离子体化学气相沉积镀膜设备
设备用途
本设备采用等离子体增强化学气相沉积技术,在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,用以制备非晶硅和微晶硅薄膜太阳电池器件??晒惴河τ糜诖笞ㄔ盒?、科研院所的薄膜材料的科研制备。
设备组成
该系统主要由1个中央传输室、3个PECVD沉积室和一个进/出片室构成,并预留2个腔室接口后续使用。
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